熱門搜索：
P760/01_2760nm單模垂直腔面發射激光器
VCSEL-20-M激光控制驅動器
ZNSP25.4-1IR拋光硫化鋅(ZnS)多光譜(透明)窗片 0.37-13.5um 25.4X1.0mm（晶體/棱鏡
Frequad-W-CW DUV 單頻連續激光器 213nm 10mW Frequad-W
HB-C0BFAS0832x4 QPSK C波段相干混頻器（信號解調/鎖相放大器等）
CO2激光光譜分析儀
ER40-6/125截止波長1300nm 高摻雜EDF摻鉺光纖
THL-ZnTe20-500RZNTE（碲化鋅）太赫茲晶體
SNA-4-FC-UPC日本精工法蘭FC/UPC（連接器/光纖束/光纜）
GD5210Y-2-2-TO46905nm 硅雪崩光電二極管 400-1100nm
1030nm超短脈沖種子激光器PS-PSL-1030
IRV2000-1X350-2000nm 1倍紅外觀察鏡
NANOFIBER-400-9-SA干涉型單模微納光纖傳感器 1270-2000nm
高能激光光譜光束組合的光柵 （色散勻化片）
FLEX-BF裸光纖研磨機
S+C+L波段 160nm可調諧帶通濾波器
無掩膜數字光刻機 MCML-120A
產品簡介
product
產品分類| 品牌 | 其他品牌 | 價格區間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學元件 | 應用領域 | 綜合 |
| 參數 | 見參數表 |
無掩膜數字光刻機 MCML-120A產品特點
采用數字微鏡 (DMD) 的無掩膜掃描式光刻機，365nm波長
直接從數字圖形生成光刻圖案，免去制作掩模板的中間過程，支持直接讀取GDSII和BMP文件
全自動化的對焦和套刻，易于使用
晶圓連續運動配合DMD動態曝光，無拼接問題。全幅面絕對定位精度0.1um
套刻精度： 0.2um
500 nm / 1 um分辨率，100mm x 100mm最大幅面（4~6寸晶圓），滿幅面曝光時間5~30分鐘
500um最小線寬
可灰度曝光（128階）
尺寸小巧，可配合專用循環裝置產生內部潔凈空間
無掩膜數字光刻機 MCML-120A
應用
微流控、生物芯片、MEMS、功率器件、LED等試制加工
帶有2.5D圖案的微光學元件，衍射光器件制作
教學、科研
參數
MCML-110A | MCML-120A | |
Wavelength 波長 | 365nm | 365nm |
Max. frame 最大幀 | 100mm x 100mm | 100mm x 100mm |
Resolution 分辨率 | 1.0um | 500nm |
Grayscale lithography 灰度光刻 | 64 levels | 128 levels |
Max exposure 最大曝光量 | 500mJ/cm2 | 2000mJ/cm2 |
Alignment accuracy 對準精度 | <200nm | <100nm |
field curvature 場曲率 | < 1 um | < 1 um |
Speed 速度 | 5mm2 /sec | 2.5mm2 /sec |
Input file 輸入文件 | BMP, GDSII | BMP, GDSII |
Z level accuracy Z級精度 | <1 um | <1 um |
Environment 環境 | 20~25℃ | 20~25℃ |
樣品
（SU8-2002, 2um膠厚，2寸硅基底）
當前位置：
上一個：
返回列表
